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真空離子鍍膜設備的檢漏有哪些步驟
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真空檢漏方法種類繁多,整體步驟上卻都大同小異。本文將介紹真空離子鍍膜設備如何檢漏。除特殊情況外,一般真空設備檢漏步驟如下:1、了解被檢設備零部件和整個設備的結構與材料設備、設備加工水平和工藝及其整機裝配的過程、需要檢漏的地方、用戶使用要求、分布漏量和總漏量的標準是多少、是否有死空間、有無易漏材料、是否使用了容易出現漏孔的制造工藝等。2、根據所了解到的較大允許漏率標準以及是否需要找出漏孔的具體位置的不同需求,結合經濟、快速、可靠等原則,對檢漏裝置、方法以及必要的輔助設備進行選擇,并擬定一套真空檢漏程序。3、對被檢真空設備零部件做清潔處理。去焊渣和油垢,然后進行清潔處理。清洗后要將被檢真空設備零部件烘干,對于有著較高要求的小型零部件,要在進行清洗過后,再進行烘烤處理。4、對真空鍍膜設備采用的檢漏方法和檢漏設備做檢漏靈敏度的校準,并將檢漏裝置的反應時間進行確定。5、在真空檢漏法的情況下,為使檢漏裝置的檢漏靈敏度提高,需盡量將被檢設備零部件抽至較高真空度,而且,在有必要時,可進行烘烤除氣處理。6、由于氦質譜檢漏法所采用的設備、氦氣價位都較高,因此,盡可能采用較為經濟的其它檢漏方法或裝置。7、在離子鍍膜機采用氦質譜檢漏儀檢漏的情況下,對設備中的一些檢漏靈敏度要求不高的或有大漏孔的待檢零部件,可在檢漏初期用低濃度的氦氣進行初步檢漏,以節省氦氣的使用。8、補修已檢出的大漏洞之后,再檢查設備小漏孔。9、凡是真空離子鍍膜設備檢出的漏孔,都要經過復檢。


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